DIN 51456-2013 Testing of materials for semiconductor technology - Surface analysis of silicon wafers by multielement determination in aqueous analysis solutions using mass spectrometry with inductively coupled plasma (ICP-MS)

Документ «DIN 51456-2013» предназначен для стандартизации методов анализа поверхности кремниевых пластин с использованием масс-спектрометрии с индуктивно связанной плазмой (ICP-MS). Основная область применения охватывает semiconductor технологии, включая изготовление и качественный контроль полупроводниковых устройств.

Ключевые аспекты документа включают установление методов пробоподготовки, параметры анализов, требования к оборудованию и процедуры валидации результатов. Он определяет стандартные условия испытаний, включая необходимость обработки образцов в водных растворах для получения точных результатов анализа.

Технические детали стандарта охватывают описание классификаций, измеряемых величин и оптимальных условий измерений для снижения погрешностей. Также предусмотрены рекомендации по количественной и качественной оценке содержания многоэлементных примесей в кремниевых пластинах.

Целевой аудиторией данного стандарта являются производители полупроводниковой продукции, научные лаборатории, а также контрольные органы и организации, занимающиеся сертификацией и аккредитацией. Эти заинтересованные стороны получают четкие указания, позволяющие обеспечить высокое качество продукции и процессов.

Практическое значение стандарта заключается в его влиянии на безопасность, качество продукции и охрану труда. Стандарт способствует улучшению совместимости компонентов, что является решающим фактором для достижения надежности полупроводниковых устройств на рынке.

Изменения или дополнения, présent в документе, касаются актуализации требований и методов анализа, что обеспечивает соответствие современным технологическим и научным достижениям. Эти изменения способствуют повышению точности и надежности результатов, необходимых для дальнейшего развития отрасли.