ASTM F1366-1992 (R 2002) Standard Test Method for Measuring Oxygen Concentration in Heavily Doped Silicon Substrates by Secondary Ion Mass Spectrometry

Документ ASTM F1366 представляет собой стандартный метод испытаний, который определяет процедуру измерения концентрации кислорода в сильно легированных кремниевых подложках с использованием метода вторичной ионной масс-спектрометрии (SIMS). Данный стандарт применяется в области полупроводниковой технологии, особенно в производстве кремниевых подложек, где контроль уровня кислорода имеет критическое значение для обеспечения качества и производительности конечных продуктов.

Ключевыми аспектами, регулируемыми данным стандартом, являются методы подготовки образцов, параметры анализа, а также требования к проведению измерений. Стандарт описывает детализированные процедуры, включая подготовку образцов, условия испытаний и калибровку оборудования, что позволяет добиться высокой точности и воспроизводимости результатов. Важным элементом является использование стандартных образцов для валидации методов и получения сопоставимых данных.

Технические детали, содержащиеся в документе, включают описание условий испытаний, таких как температура, давление и состав среды, в которой проводятся измерения. Также указаны классификации легирования и диапазоны концентраций кислорода, которые могут быть измерены при помощи описанного метода. Эти параметры являются критически важными для достижения надежных и точных результатов, необходимых для дальнейшего анализа и применения в производственных процессах.

Целевая аудитория стандарта включает производителей полупроводников, исследовательские лаборатории, а также контролирующие органы, ответственные за соблюдение стандартов качества. Данный документ служит руководством для специалистов, работающих в области разработки и тестирования кремниевых подложек, обеспечивая единые подходы к измерению и контролю качества продукции.

Практическое значение стандарта заключается в его влиянии на безопасность и качество продукции, а также на охрану труда в производственных процессах. Соблюдение данного стандарта способствует повышению совместимости и надежности кремниевых подложек, что, в свою очередь, влияет на общую производительность полупроводниковых устройств. В случае внесения изменений или дополнений в стандарт, они касаются уточнения методов калибровки и обновления рекомендаций по выбору оборудования, что позволяет улучшить качество измерений и адаптировать стандарт к современным требованиям отрасли.