Картотека документов

Электронный фонд правовой
и нормативно-технической документации

ASTM F996-2011 (R 2018) Standard Test Method for Separating an Ionizing Radiation-Induced MOSFET Threshold Voltage Shift Into Components Due to Oxide Trapped Holes and Interface States Using the Subthreshold Current–Voltage Characteristics Метод испытаний стандарта для разделения сдвигов порога MOSFET при ионизирующем излучении на компоненты, вызванные запутанными дырками в оксиде и состояниями интерфейса с использованием характеристик тока-напряжения в подпороговой области

Название документа
ASTM F996-2011 (R 2018) Standard Test Method for Separating an Ionizing Radiation-Induced MOSFET Threshold Voltage Shift Into Components Due to Oxide Trapped Holes and Interface States Using the Subthreshold Current–Voltage Characteristics Метод испытаний стандарта для разделения сдвигов порога MOSFET при ионизирующем излучении на компоненты, вызванные запутанными дырками в оксиде и состояниями интерфейса с использованием характеристик тока-напряжения в подпороговой области
Вид документа
Принявший орган
Статус
Скрыто
Дата принятия
Скрыто
Дата начала действия
Скрыто

Документ ASTM F996 представляет собой стандартный метод испытаний, предназначенный для разделения сдвига порогового напряжения MOSFET, вызванного ионизирующим излучением, на компоненты, связанные с ловушками в оксиде и интерфейсными состояниями. Этот стандарт применяется в области материаловедения и радиационной физики, особенно для полупроводниковых устройств, подверженных воздействию ионизирующего излучения. Основной целью является обеспечение точного анализа и понимания механизмов, которые приводят к изменению характеристик MOSFET под воздействием радиации.

Ключевыми аспектами, регламентируемыми документом, являются методы измерения подчиненного тока и напряжения MOSFET, а также параметры, используемые для оценки влияния радиации на устройства. Стандарт описывает процедуры, которые позволяют исследовать влияние ловушек в оксиде и интерфейсных состояний на пороговое напряжение, что является критически важным для оценки надежности и долговечности полупроводниковых компонентов. Важным элементом является также указание на условия испытаний, включая температуру и частоту измерений.

Целевая аудитория стандарта включает производителей полупроводниковых устройств, исследовательские лаборатории, а также контролирующие органы, занимающиеся оценкой безопасности и эффективности радиационно-стойких материалов. Стандарт предоставляет необходимую основу для разработки новых технологий и улучшения существующих процессов, что способствует повышению качества и надежности изделий, используемых в условиях радиационного воздействия.

Практическое значение стандарта заключается в его влиянии на безопасность и качество полупроводниковых устройств, которые могут эксплуатироваться в различных областях, включая ядерную энергетику, космические технологии и медицинскую технику. Правильное применение методов, описанных в ASTM F996, позволяет минимизировать риски, связанные с радиационной деградацией, и обеспечить долговечность устройств. Стандарт также может быть обновлен или дополнен новыми данными и методами, что отражает динамичное развитие технологий и требований к безопасности.

Описание документа носит справочный характер, достоверность этого материала не гарантируется.

Чтобы получить полный доступ к этому и другим документам, приобретайте доступ к Информационной сети «Техэксперт» - лидеру в области комплексного обеспечения предприятий нормативно-технической документацией.

Нормативно-техническая документация (ГОСТ, СНиП, ГН, Р, ГЭСН и др.)
Нормативно-правовые акты органов государственной власти (законы, законопроекты, постановления)
Технологическая документация (чертежи, схемы и др.)
Аналитические материалы
Классификаторы и словари
Справочная информация
Все документы и информация о них
доступны в системах «Техэксперт» и «Кодекс»