ISO 23170-2022 Surface chemical analysis — Depth profiling — Non-destructive depth profiling of nanoscale heavy metal oxide thin films on Si substrates with medium energy ion scattering

Документ «ISO 23170-2022» устанавливает стандарты для неразрушающего профилирования глубины наноразмерных тонких плёнок оксидов тяжёлых металлов на подложках из кремния с использованием методов средней энергии ионного рассеяния. Он предназначен для научных и производственных лабораторий, а также организаций, занимающихся контролем качества, и является важным инструментом для анализа и контроля свойств тонких плёнок в различных сферах, включая электронику и фотонику.

Ключевыми аспектами, регламентируемыми в документе, являются методы профилирования, параметры глубины анализа, а также требования к проведению испытаний, включая оптимизацию условий для достижения точных и воспроизводимых результатов. Установленные процедуры позволяют устранить влияние внешних факторов на результаты измерений, обеспечивая высокую степень надёжности данных.

Важные технические детали включают конкретные условия испытаний, такие как параметры энергии ионизирующих частиц и их облучения, а также методы обработки полученных данных, что важно для правильной интерпретации результатов. Измеряемые величины, такие как толщина плёнки и состав, способствуют оценке технологических процессов в производстве полупроводниковых устройств.

Целевая аудитория стандарта охватывает производители наноразмерных материалов, научные исследовательские группы, а также контрольные органы, заинтересованные в подтверждении соответствия продукции высоким международным стандартам качества и безопасности.

Практическое значение данного стандарта заключается в его влиянии на безопасность и качество продукции, а также на оптимизацию условий труда в лабораториях. Стандарт обеспечивает совместимость различных технологических процессов и способствует развитию методов обеспечения устойчивости и экологической безопасности при работе с оксидами тяжёлых металлов.

Документ был обновлён для соответствия современным требованиям науки и техники, что подтверждает его актуальность и значимость в области поверхностного анализа. Уточnены параметры и методы, используемые для анализа, что улучшает точность и надёжность тестов.