ГОСТ 25196-82 (СТ СЭВ 2760-80) Оборудование вакуумное. Установки для ионной имплантации. Общие технические требования - Информпроект Групп
Картотека документов

Электронный фонд правовой
и нормативно-технической документации

ГОСТ 25196-82 (СТ СЭВ 2760-80) Оборудование вакуумное. Установки для ионной имплантации. Общие технические требования

ГОСТ 25196-82 (СТ СЭВ 2760-80) Оборудование вакуумное. Установки для ионной имплантации. Общие технические требования

     
     ГОСТ 25196-82
(СТ СЭВ 2760-80)

Группа Э71

     
ГОСУДАРСТВЕННЫЙ СТАНДАРТ СОЮЗА ССР

     
     
ОБОРУДОВАНИЕ ВАКУУМНОЕ. УСТАНОВКИ ДЛЯ ИОННОЙ ИМПЛАНТАЦИИ

     
Общие технические требования

     
Vacuum equipement. Apparatus for ion implantation. General technical requirement


ОКП 62 7335

Дата введения 1983-07-01



Постановлением Государственного комитета СССР по стандартам от 31 марта 1982 г. N 1383 срок действия установлен с 01.07.1983 г. до 01.07.1988 г.*

_______________

* Ограничение срока действия снято по протоколу Межгосударственного Совета по стандартизации, метрологии и сертификации (ИУС N 2, 1993 год). - Примечание изготовителя базы данных.    



1. Настоящий стандарт распространяется на установки для ионной имплантации (далее - установки), предназначенные для внедрения ионов твердых, газообразных и жидких веществ массой от 1,660 57·10 до 217,534 67·10 кг (от 1 до 131 а. е. м.), в том числе элементарных и многозарядных ионов бора, фосфора, цинка, мышьяка, селена и сурьмы с эквивалентной энергией ионов от 1,6·10 до 1,6·10 Дж (от 10 до 1200 кэВ) при изготовлении полупроводниковых приборов, интегральных схем и других изделий микроэлектроники.

Стандарт полностью соответствует СТ СЭВ 2760-80.

2. Технические требования к установкам - по ГОСТ 24686-81.

3. Установки должны обеспечивать один из режимов обработки изделий:

поштучный;

групповой;

комбинированный.

4. Число пластин, обрабатываемых за один цикл на установке, должно быть кратным 25.

5. Предельное остаточное давление в установке должно быть не более 1,3·10 Па.

 

6. Минимальный ионный ток следует выбирать из ряда: 0,01; 0,1; 1; 10; 100; 500; 1000 мкА.

7. Максимальный ионный ток следует выбирать из ряда: 0,03; 0,1; 0,5; 1; 2; 5; 10 мА.

8. Неравномерность дозы имплантации следует выбирать из ряда: 0,5; 1; 2; 4%.

9. Показатели надежности установок следует определять наработкой на отказ, средним временем восстановления и средним ресурсом в соответствии с ГОСТ 24786-81.

Наработку на отказ следует выбирать из ряда: 100, 125, 160, 200, 250, 400, 500, 630, 800, 1000 ч.

Среднее время восстановления должно быть не более 4 ч.

Средний ресурс следует выбирать из ряда: 5000, 5600, 6300, 7100, 8000, 9000, 10000 ч.





Электронный текст документа
подготовлен ЗАО "Кодекс" и сверен по:
официальное издание
М.: Издательство стандартов, 1982     

Доступ к полной версии документа ограничен

Название документа
ГОСТ 25196-82 (СТ СЭВ 2760-80) Оборудование вакуумное. Установки для ионной имплантации. Общие технические требования
Номер документа
25196-82
Вид документа
Нормативно-технический документ
Статус
Скрыто
Дата принятия
Скрыто
Дата начала действия
Скрыто

Документ «ГОСТ 25196-82 СТ СЭВ 2760-80» устанавливает общие технические требования к вакуумному оборудованию для ионной имплантации. Он предназначен для применения в научных и производственных лабораториях, занимающихся процессами ионной имплантации в полупроводниковой технологии, а также в других областях, где требуется высокая степень контроля за параметрами вакуума и ионного потока.

В стандарте регламентируются методы испытаний, параметры работы и требования к конструкции установок. Особое внимание уделяется характеристикам вакуума, включая предельно допустимые уровни давления, а также спецификациям по ионным источникам и системам управления. Эти аспекты критически важны для обеспечения стабильности процессов и достижения заданных характеристик конечных материалов.

Ключевыми техническими деталями, описанными в документе, являются условия испытаний и классификация вакуумных установок. В стандарте определены измеряемые величины, такие как плотность тока и параметры ионного потока, а также методы их контроля. Это позволяет обеспечить сопоставимость результатов испытаний и повысить надежность и безопасность оборудования.

Целевая аудитория стандарта включает производителей вакуумного оборудования, исследовательские лаборатории и контролирующие органы, ответственные за соблюдение технических норм и стандартов. Стандарт служит основой для разработки новых моделей оборудования и оптимизации существующих решений, что способствует повышению качества и безопасности производственных процессов.

Практическое значение стандарта заключается в его влиянии на безопасность и качество производимых изделий, а также на охрану труда. Соблюдение требований данного документа позволяет минимизировать риски, связанные с эксплуатацией вакуумного оборудования, и обеспечивает совместимость между различными системами. В случае внесения изменений или дополнений в стандарт, они касаются уточнения требований к техническим характеристикам и методов испытаний, что способствует их актуализации в соответствии с современными научными и технологическими достижениями.

Описание документа носит справочный характер, достоверность этого материала не гарантируется.

Чтобы получить полный доступ к этому и другим документам, приобретайте доступ к Информационной сети «Техэксперт» - лидеру в области комплексного обеспечения предприятий нормативно-технической документацией.

Нормативно-техническая документация (ГОСТ, СНиП, ГН, Р, ГЭСН и др.)
Нормативно-правовые акты органов государственной власти (законы, законопроекты, постановления)
Технологическая документация (чертежи, схемы и др.)
Аналитические материалы
Классификаторы и словари
Справочная информация
Все документы и информация о них
доступны в системах «Техэксперт» и «Кодекс»