ASTM F1617-1998 (R 2002) Standard Test Method for Measuring Surface Sodium, Aluminum, Potassium, and Iron on Silicon and EPI Substrates by Secondary Ion Mass Spectrometry

Документ ASTM F1617 представляет собой стандартный метод испытаний, предназначенный для измерения содержания натрия, алюминия, калия и железа на кремниевых и эпитаксиальных подложках с использованием метода вторичной ионной масс-спектрометрии (SIMS). Этот стандарт применяется в области полупроводниковой технологии, где чистота подложек имеет критическое значение для обеспечения высококачественных материалов и компонентов.

Основные аспекты, регулируемые данным стандартом, включают описание методологии проведения измерений, параметры, которые должны быть учтены во время испытаний, а также требования к оборудованию и условиям, в которых проводятся анализы. Стандарт определяет протоколы подготовки образцов, настройки приборов и интерпретацию полученных данных, что обеспечивает воспроизводимость и точность результатов.

Технические детали, регламентируемые ASTM F1617, включают условия испытаний, такие как давление, температура и параметры ионного пучка, а также классификацию измеряемых величин. Стандарт также описывает допустимые пределы обнаружения для каждого элемента, что позволяет пользователям оценивать уровень загрязнения подложек и их соответствие требованиям качества.

Целевая аудитория данного стандарта включает производителей полупроводниковых материалов, исследовательские лаборатории, а также контролирующие органы, занимающиеся обеспечением качества и безопасности в области электроники. Использование данного метода позволяет специалистам эффективно мониторить чистоту подложек, что в свою очередь способствует улучшению характеристик конечных продуктов.

Практическое значение стандарта заключается в его влиянии на безопасность и качество полупроводниковых устройств, что критично для их надежности и долговечности. Соблюдение требований ASTM F1617 способствует повышению совместимости компонентов и снижению рисков, связанных с эксплуатацией электроники в различных условиях.

В последующих версиях документа могут быть внесены изменения, касающиеся уточнения методик измерений и обновления диапазонов допустимых значений. Эти дополнения направлены на улучшение точности и надежности проводимых исследований, что является важным шагом в развитии полупроводниковой отрасли.