ГОСТ Р 71994-2025 Системы подготовки воды для электронной промышленности

ГОСТ Р 71994-2025

НАЦИОНАЛЬНЫЙ СТАНДАРТ РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ

СИСТЕМЫ ПОДГОТОВКИ ВОДЫ ДЛЯ ЭЛЕКТРОННОЙ ПРОМЫШЛЕННОСТИ

Systems of ultrapure water treatment for electronics industry

ОКС 13.060.25

Дата введения 2025-11-01

Предисловие

1 РАЗРАБОТАН Акционерным обществом "НАУЧНО-ПРОИЗВОДСТВЕННАЯ КОМПАНИЯ МЕДИАНА-ФИЛЬТР" (АО "НПК МЕДИАНА-ФИЛЬТР") (разработчики В.Б.Смирнов, С.И.Якименко, Д.Д.Ганин, Д.А.Сафонова, А.А.Смирнов)

2 ВНЕСЕН Техническим комитетом по стандартизации ТК 184 "Обеспечение промышленной чистоты"

3 УТВЕРЖДЕН И ВВЕДЕН В ДЕЙСТВИЕ Приказом Федерального агентства по техническому регулированию и метрологии от 20 марта 2025 г. № 192-ст

4 ВВЕДЕН ВПЕРВЫЕ

Правила применения настоящего стандарта установлены в статье 26 Федерального закона от 29 июня 2015 г. № 162-ФЗ "О стандартизации в Российской Федерации". Информация об изменениях к настоящему стандарту публикуется в ежегодном (по состоянию на 1 января текущего года) информационном указателе "Национальные стандарты", а официальный текст изменений и поправок - в ежемесячном информационном указателе "Национальные стандарты". В случае пересмотра (замены) или отмены настоящего стандарта соответствующее уведомление будет опубликовано в ближайшем выпуске ежемесячного информационного указателя "Национальные стандарты". Соответствующая информация, уведомление и тексты размещаются также в информационной системе общего пользования - на официальном сайте Федерального агентства по техническому регулированию и метрологии в сети Интернет (www.rst.gov.ru)

Введение

Производство электронной техники в России включает изготовление интегральных схем, различных полупроводниковых приборов, продукцию оптоэлектроники и др. Все эти производства требуют систем водоподготовки, выполненных из специальных материалов и позволяющих получать ультрачистую воду. При этом удельное потребление ультрачистой воды на единицу продукции очень велико. Например, для изготовления одной 8-дюймовой (200 мм) кремниевой пластины для производства около 100 чипов может потребоваться до 7500 л воды, причем около двух третей воды должно быть ультрачистого качества.

В настоящем стандарте приведена классификация ультрачистой воды для современного массового производства изделий микроэлектроники, а также представлены схемы ее получения и распределения. Стандарт является отправной точкой для проектных организаций, монтажа, эксплуатации и экспертизы таких объектов строительства или реконструкции. Настоящий стандарт является первым отечественным стандартом, который регламентирует методы аналитического контроля, выбор материалов, организацию производства ультрачистой воды для промышленного и опытного производства изделий микроэлектроники.

1 Область применения

Настоящий стандарт распространяется на системы получения и распределения ультрачистой (деионизованной) воды для производства изделий электронной техники.

Настоящий стандарт содержит требования к ультрачистой воде. Классификация воды по качеству введена в зависимости от топологии технологического процесса производства микросхем.

В настоящем стандарте установлены требования к системам получения и распределения ультрачистой воды. Требования стандарта распространяются на проектирование, монтаж, ввод в эксплуатацию, испытания, эксплуатацию и техническое обслуживание систем подготовки ультрачистой воды.

2 Нормативные ссылки

В настоящем стандарте использованы нормативные ссылки на следующие стандарты:

ГОСТ 31958-2012 Вода. Методы определения содержания общего и растворенного органического углерода

ГОСТ 34786 Вода питьевая. Методы определения общего числа микроорганизмов, колиформных бактерий, Escherichia coli, Pseudomonas aeruginosa и энтерококков