Картотека документов

Электронный фонд правовой
и нормативно-технической документации

DIN 50455-2-1999 Testing of materials for semiconductor technology - Methods for the characterisation photoresists - Part 2: Determination of photosensitivity of positive photoresists Тестирование материалов для технологии полупроводников - Методы характеристики фотофоточувствительных материалов - Часть 2: Определение фоточувствительности положительных фотофоточувствительных материалов

Название документа
DIN 50455-2-1999 Testing of materials for semiconductor technology - Methods for the characterisation photoresists - Part 2: Determination of photosensitivity of positive photoresists Тестирование материалов для технологии полупроводников - Методы характеристики фотофоточувствительных материалов - Часть 2: Определение фоточувствительности положительных фотофоточувствительных материалов
Вид документа
Принявший орган
Статус
Скрыто
Дата принятия
Скрыто
Дата начала действия
Скрыто

Документ «DIN 50455-2-1999» устанавливает методы испытаний для материалов полупроводниковой технологии, сосредотачиваясь на характеристике фоточувствительных резисторов. Основное назначение стандарта заключается в определении фоточувствительности позитивных фотоматериалов, что критически важно для точной и надежной работы в области микроэлектроники. Использование данного стандарта позволяет обеспечить единообразие в оценке фоточувствительности различных материалов, что в свою очередь способствует повышению качества конечных продуктов.

Ключевыми аспектами, регламентируемыми документом, являются установленные методики испытаний, параметры, необходимые для оценки фоточувствительности, а также требования к подготовке образцов и оборудованию. Стандарт учитывает различные условия испытаний, включая освещенность, температуру и время экспонирования, что позволяет получить результаты, соответствующие установленным нормам. Процедуры, описанные в документе, гарантируют, что оценка будет произведена в строгом соответствии с необходимыми методами, предотвращая возможные ошибки.

Документ будет полезен для производителей фотоматериалов, исследовательских лабораторий и контролирующих органов, поскольку он предоставляет четкие инструкции по испытанию и оценке фоточувствительных резисторов. Это необходимо для обеспечения комплаенса с международными стандартами качества и безопасности. Специалисты, работающие с полупроводниковыми технологиями, смогут использовать данный стандарт для оптимизации своих процессов и повышения надежности продукции.

Практическое значение стандарта «DIN 50455-2-1999» заключается в его влиянии на безопасность и качество компонентов полупроводниковой технологии. Внедрение этого стандарта способствует улучшению совместимости материалов, а также их производительности при различных эксплуатационных условиях. Подобные улучшения обеспечивают надежность и долговечность конечных продуктов, что крайне важно в высоких технологиях, особенно в свете растущих требований к безопасности и экологии.

В случае появления обновлений или дополнений стандарт будет адаптироваться к новым требованиям и достижениям в области фотоматериалов. За счет этого документ останется актуальным и полезным для профессионального сообщества, обеспечивая соответствие современным технологическим процессам и рыночным ожиданиям.

Описание документа носит справочный характер, достоверность этого материала не гарантируется.

Чтобы получить полный доступ к этому и другим документам, приобретайте доступ к Информационной сети «Техэксперт» - лидеру в области комплексного обеспечения предприятий нормативно-технической документацией.

Нормативно-техническая документация (ГОСТ, СНиП, ГН, Р, ГЭСН и др.)
Нормативно-правовые акты органов государственной власти (законы, законопроекты, постановления)
Технологическая документация (чертежи, схемы и др.)
Аналитические материалы
Классификаторы и словари
Справочная информация
Все документы и информация о них
доступны в системах «Техэксперт» и «Кодекс»

Возможно вас заинтересуют

PDF DIN 50455-1-2009 Testing of materials for semiconductor technology - Methods for characterizing photoresists - Part 1: Determination of coating thickness with optical methods Тестирование материалов для технологии полупроводников - Методы характеристики фотофоточувствительных материалов - Часть 1: Определение толщины покрытия оптическими методами PDF DIN 50453-2-1990 Spectrophotometric determination of etch rate of mixtures for etching silicon dioxide coatings for use in semiconductor technology Спектрофотометрическое определение скорости травления смесей для травления оксидных покрытий кремния, используемых в технологии полупроводников PDF DIN 50453-1-1990 Testing of materials for semiconductor technology; determination of etch rates of etching mixtures; silicium monocrystals; gravimetric method Тестирование материалов для технологии полупроводников; определение скорости травления травящих смесей; монокристаллы кремния; метод гравиметрии PDF DIN 50456-3-1999 Characterization of encapsulating compounds for electronic components used in semiconductor technology - Part 3: Determination of cationic impurities Характеризация защитных композиций для электронных компонентов, используемых в технологии полупроводников - Часть 3: Определение катионных примесей PDF DIN 5046-1983 Hooks for meat and other foods; S-hook Закрепки для мяса и других продуктов; S-закрепка PDF DIN 50460-1988 Determination of magnetic properties of soft magnetic materials; general, terminology and principles of measurement Определение магнитных свойств материалов с мягким магнетизмом; общие положения, терминология и принципы измерения