Картотека документов
Электронный фонд правовой
и нормативно-технической документации
DIN 50453-1-1990 Testing of materials for semiconductor technology; determination of etch rates of etching mixtures; silicium monocrystals; gravimetric method
Название документа
DIN 50453-1-1990 Testing of materials for semiconductor technology; determination of etch rates of etching mixtures; silicium monocrystals; gravimetric method
Вид документа
Принявший орган
Статус
Скрыто
Дата принятия
Скрыто
Дата начала действия
Скрыто
Скачать документ нельзя. Можно заказать бесплатно один документ
Международные и зарубежные стандарты ( ASTM, ISO, ASME, API, DIN, BS и др.) не предоставляются в рамках данной услуги. Каждый стандарт приобретается платно с учетом лицензионной политики Разработчика.
Возможно вас заинтересуют
DIN 50452-3-1995 Testing of materials for semiconductor technology - Test method for particle analysis in liquids - Part 3: Calibration of optical particle counters
DIN 50452-2-2009 Testing of materials for semiconductor technology - Test method for particle analysis in liquids - Part 2: Determination of particles by optical particle counters
DIN 50452-1-1995 Testing of materials for semiconductor technology - Test method for particle analysis in liquids - Part 1: Microscopic determination of particles
DIN 50453-2-1990 Spectrophotometric determination of etch rate of mixtures for etching silicon dioxide coatings for use in semiconductor technology
DIN 50455-1-2009 Testing of materials for semiconductor technology - Methods for characterizing photoresists - Part 1: Determination of coating thickness with optical methods
DIN 50455-2-1999 Testing of materials for semiconductor technology - Methods for the characterisation photoresists - Part 2: Determination of photosensitivity of positive photoresists